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近松 彰 CHIKAMATSU Akira
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学歴 【 表示 ／ 非表示 】
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東京大学, 大学院工学系研究科, 応用化学専攻, 大学院（博士課程）, 2008年03月, 修了, 日本国
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東京大学, 大学院工学系研究科, 応用化学専攻, 大学院（修士課程）, 2005年03月, 修了, 日本国
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東京理科大学, 理学部第一部, 化学科, 大学, 2003年03月, 卒業, 日本国
学内職務経歴 【 表示 ／ 非表示 】
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基幹研究院 自然科学系，准教授，2021年10月 - 継続中
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お茶の水女子大学 文理融合AI・データサイエンスセンター，センター員，2022年04月 - 継続中
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お茶の水女子大学 共通機器センター，センター員，2022年04月 - 継続中
学外略歴 【 表示 ／ 非表示 】
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東京大学 大学院理学系研究科化学専攻，助教，2009年11月 - 2021年09月
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東京大学 大学院理学系研究科化学専攻，特任助教，2008年05月 - 2009年11月
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東京大学 大学院理学系研究科化学専攻，特任研究員，2008年04月
研究分野 【 表示 ／ 非表示 】
論文 【 表示 ／ 非表示 】
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Half-Metallicity and Magnetic Anisotropy in Double-Perovskite GdBaCo2O6 Films Prepared via Topotactic Oxidation
Chemistry of Materials, , 35巻3号(頁1295 - 1300), 2023年02月, KATAYAMA Tsukasa, MO Shishin, CHIKAMATSU Akira, KURAUCHI Yuji, KUMIGASHIRA Hiroshi, HASEGAWA Tetsuya, 原著, 研究論文（学術雑誌）, 共著者
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Negative magnetoresistance in different nitrogen content EuNbO3-xNx single-crystalline thin films
Journal of Materials Chemistry C, , 10巻(頁14661 - 14667), 2022年10月, MARUYAMA Takahiro, HIROSE Yasushi, KATAYAMA Tsukasa, SUGISAWA Yuki, SEKIBA Daiichiro, HASEGAWA Tetsuya, CHIKAMATSU Akira, 原著, 研究論文（学術雑誌）, 第一著者相当
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Epitaxial growth of hexagonal GdFeO3 thin films with magnetic order by pulsed laser deposition
Thin Solid Films, , 757巻(頁139409-1 - 139409-4), 2022年08月, KASAHARA Jun, KATAYAMA Tsukasa, CHIKAMATSU Akira, HAMASAKI Yosuke, HASEGAWA Tetsuya, 原著, 研究論文（学術雑誌）, 共著者
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Ionic order and magnetic properties of double-perovskite GdBaCo2O5.5 films on SrTiO3 substrates
Journal of the Ceramic Society of Japan, , 130巻7号(頁429 - 431), 2022年07月, KATAYAMA Tsukasa, CHIKAMATSU Akira, HASEGAWA Tetsuya, 原著, 研究論文（学術雑誌）, 共著者
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Crystal structure and electronic property modification of Ca2RuO4 thin films via fluorine doping
Physical Review Materials, , 6巻3号(頁035002-1 - 035002-5), 2022年03月, FUKUMA Shota, CHIKAMATSU Akira, KATAYAMA Tsukasa, MARUYAMA Takahiro, YANAGISAWA Keiich, KIMOTO Koji, KITAMURA Miho, HORIBA Koji, KUMIGASHIRA Hiroshi, HIROSE Yasushi, HASEGAWA Tetsuya, 原著, 研究論文（学術雑誌）, 第一著者相当
研究発表 【 表示 ／ 非表示 】
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層状イリジウム・ルテニウム酸フッ化物エピタキシャル薄膜の構造と電気特性
近松彰, 国内, 2022年12月, 第32回日本MRS年次大会, 神奈川県横浜市, 日本MRS, 招待講演, 第一発表者
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Layered ruthenium and iridium oxyfluoride thin films fabricated via topochemical fluorination
近松 彰・長谷川 哲也, 国内, 2022年09月, 第46回日本磁気学会学術講演会, 信州大学長野(工学)キャンパス, 日本磁気学会, 招待講演, 第一発表者
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Topochemical synthesis of mixed-anion oxide epitaxial thin films
CHIKAMATSU Akira, 国外, 2022年05月, 2022 MRS Spring Meeting, Online, Materials Research Society, 招待講演, 第一発表者
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Modulating physical properties of strongly correlated oxide thin films by anion doping
CHIKAMATSU Akira, HASEGAWA Tetsuya, 国外, 2021年12月, The Materials Research Meeting 2021, Yokohama, Japan, 招待講演, 第一発表者
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トポタクティック合成法による複合アニオン酸化物エピタキシー
近松 彰, 国内, 2021年01月, 第134回東京工業大学フロンティア材料研究所講演会, オンライン, 招待講演, 第一発表者
研究活動に対する受賞 【 表示 ／ 非表示 】
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令和3年度日本磁気学会「学会活動貢献賞」
日本磁気学会, 近松 彰, 2021年08月, 国内
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ニッポン放送賞
第22回 独創性を拓く先端技術大賞, 近松 彰, 2008年06月, 国内
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優秀ポスター賞
2005年度PF研究会「アンジュレータ放射光による固体物性研究の展望」, 近松 彰, 2005年04月, 国内
外部資金等受入（教育・社会貢献の外部資金を含む） 【 表示 ／ 非表示 】
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室温で動作するマルチフェロイック酸フッ化物薄膜の開発
近松 彰, サムコ科学技術振興財団 第5回研究助成 , サムコ科学技術振興財団, 2022年度, 2,000千円
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遷移金属複合アニオン酸化物薄膜の光機能の開発
基盤研究（Ｂ）, 近松 彰, 和達 大樹、酒井 志朗 , 2022年度, 1,500千円
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遷移金属複合アニオン酸化物薄膜の光機能の開発
基盤研究（Ｂ）, 近松 彰, 和達 大樹、酒井 志朗 , 2021年度, 1,500千円
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遷移金属複合アニオン酸化物薄膜の光機能の開発
基盤研究（Ｂ）, 近松 彰, 和達 大樹、酒井 志朗 , 2020年度, 1,500千円
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遷移金属複合アニオン酸化物薄膜の光機能の開発
基盤研究（Ｂ）, 近松 彰, 和達 大樹、酒井 志朗 , 2019年度, 9,100千円
学術団体の役員、委員等としての貢献 【 表示 ／ 非表示 】
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応用物理学会 量子ビームによる表面界面の光機能探究研究会
2020年04月 - 現在，委員, 国内
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日本磁気学会
2019年04月 - 2021年03月，幹事（監査）, 国内
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日本磁気学会
2017年05月 - 2019年03月，委員, 国内
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日本表面真空学会 関東支部
2015年04月 - 現在，委員, 国内
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日本表面科学会
2013年06月 - 2015年05月，委員, 国内