近松 彰

CHIKAMATSU Akira

職名

准教授

所属

基幹研究院 自然科学系

お茶の水女子大学

主担当学科

理学部化学科

担当大学院(博士前期課程)

人間文化創成科学研究科理学専攻化学・生物化学コース

担当大学院(博士後期課程)

人間文化創成科学研究科理学専攻化学・生物化学領域

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学歴 【 表示 / 非表示

  • 東京大学, 大学院工学系研究科, 応用化学専攻, 大学院(博士課程), 2008年03月, 修了, 日本国

  • 東京大学, 大学院工学系研究科, 応用化学専攻, 大学院(修士課程), 2005年03月, 修了, 日本国

  • 東京理科大学, 理学部第一部, 化学科, 大学, 2003年03月, 卒業, 日本国

学位 【 表示 / 非表示

  • 博士(工学), 東京大学, 2008年03月

学内職務経歴 【 表示 / 非表示

  • 基幹研究院 自然科学系,准教授,2021年10月 - 継続中

  • お茶の水女子大学 文理融合AI・データサイエンスセンター,センター員,2022年04月 - 継続中

  • お茶の水女子大学 共通機器センター,センター員,2022年04月 - 継続中

  • お茶の水女子大学 ラジオアイソトープ実験センター,センター員,2024年04月 - 継続中

学外略歴 【 表示 / 非表示

  • 東京大学 大学院理学系研究科化学専攻,助教,2009年11月 - 2021年09月

  • 東京大学 大学院理学系研究科化学専攻,特任助教,2008年05月 - 2009年11月

  • 東京大学 大学院理学系研究科化学専攻,特任研究員,2008年04月

研究分野 【 表示 / 非表示

 

論文 【 表示 / 非表示

  • Topochemical Fluorination of Epitaxial Thin Films of Barium-Doped Bismuth Iron Oxyfluoride

    Crystal Growth & Design, , 24巻22号(頁9344 - 9349), 2024年11月, SANO Mizuho, KAMIGAITO Akiko, WAKAYAMA Yusuke, SHIGEMATSU Kei, KATAYAMA Tsukasa, HIROSE Yasushi, CHIKAMATSU Akira, 原著, 研究論文(学術雑誌), 第一著者相当

  • Cation-placement control in double-perovskite GdBaCo2O6 and its impact on magnetism via spin-state modification

    Journal of Materials Chemistry C, The Royal Society of Chemistry, 12巻(頁10428 - 10436), 2024年06月, KATAYAMA Tsukasa, MAGARA Kento, SAKAI Shiro, ZENG Yijie, CHIKAMATSU Akira, HASEGAWA Tetsuya, 原著, 研究論文(学術雑誌), 共著者

  • Large tensile-strained BaTiO3 films grown on a lattice-mismatched La-doped BaSnO3 bottom electrode

    CrystEngComm, The Royal Society of Chemistry, 26巻21号(頁2765 - 2769), 2024年04月, GONG Lizhikun, MARUNOUCHI Ko, CHIKAMATSU Akira, OHTA Hiromichi, KATAYAMA Tsukasa, 原著, 研究論文(学術雑誌), 共著者

  • Unidirectional growth of epitaxial tantalum disulfide triangle crystals grown on sapphire by chemical vapour deposition with a separate-flow system

    CrystEngComm, , 26巻(頁341 - 348), 2024年01月, YANASE Takashi, EBASHI Miu, TAKAMURE Kotaro, ISE Wataru, WAIZUMI Hiroki, CHIKAMATSU Akira, HIROSE Yasushi, SHIMADA Toshihiro, 原著, 研究論文(学術雑誌), 共著者

  • 層状酸化物単結晶薄膜のトポケミカルフッ化反応と電子物性変化

    表面と真空, , 66巻8号(頁455 - 460), 2023年08月, 近松 彰, 総説, 研究論文(学術雑誌), 単著

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研究発表 【 表示 / 非表示

  • Topochemical fluorination of yttrium-barium ferrite epitaxial thin films

    TSUIJI Reina, KISHI Miori, KAMIGAITO Akiko, HIROSE Yasushi, CHIKAMATSU Akira, 国外, ポスター発表, 2025年04月, 2025年04月18日2025年04月19日, The Japan Society of Vacuum and Surface Science Kanto Chapter 10th Anniversary Symposium, Niigata, Japan, 一般発表, 第一発表者

  • Fluoride-ion conductivity of strontium cerium fluoride epitaxial thin films

    HAGIWARA Miku, NAKANO Ayuka, KUTSUZAWA Dai, FUKUSHI Erika, OGUCHI Hiroyuki, KATAYAMA Tsukasa, HIROSE Yasushi, CHIKAMATSU Akira, 国外, ポスター発表, 2025年04月, 2025年04月18日2025年04月19日, The Japan Society of Vacuum and Surface Science Kanto Chapter 10th Anniversary Symposium, Niigata, Japan, 一般発表, 第一発表者

  • Structural changes in bismuth iron oxide epitaxial thin films via topochemical fluorination

    KAMIGAITO Akiko, SANO Mizuho, SHIGEMATSU Kei, KATAYAMA Tsukasa, HIROSE Yasushi, CHIKAMATSU Akira, 国外, ポスター発表, 2025年04月, 2025年04月18日2025年04月19日, The Japan Society of Vacuum and Surface Science Kanto Chapter 10th Anniversary Symposium, Niigata, Japan, 一般発表, 第一発表者

  • Topochemical fluorination of perovskite SrCeO3 epitaxial thin films

    NAKANO Ayuka, HAGIWARA Miku, UESUGI Fumihiko, KATAYAMA Tsukasa, HIROSE Yasushi, CHIKAMATSU Akira, 国外, ポスター発表, 2025年04月, 2025年04月18日2025年04月19日, The Japan Society of Vacuum and Surface Science Kanto Chapter 10th Anniversary Symposium, Niigata, Japan, 一般発表, 第一発表者

  • フッ化ストロンチウムセリウム薄膜の結晶構造とフッ化物イオン伝導性

    近松 彰, 国内, 口頭発表(招待・特別), 2025年01月, 2025年01月31日2025年01月31日, 一般社団法人日本フッ素化学会 第17回産学連携部会, ワイム貸会議室お茶の水(東京都千代田区), 招待講演, 第一発表者

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研究活動に対する受賞 【 表示 / 非表示

  • 第6回物質・デバイス共同研究賞

    物質・デバイス領域共同研究拠点, 近松 彰・上垣外 明子・佐野 瑞歩・片山 司, 2024年05月, 国内その他, 日本国,

  • 令和3年度日本磁気学会「学会活動貢献賞」

    日本磁気学会, 近松 彰, 2021年08月, 国内

  • ニッポン放送賞

    第22回 独創性を拓く先端技術大賞, 近松 彰, 2008年06月, 国内

  • 優秀ポスター賞

    2005年度PF研究会「アンジュレータ放射光による固体物性研究の展望」, 近松 彰, 2005年04月, 国内

外部資金等受入(教育・社会貢献の外部資金を含む) 【 表示 / 非表示

  • 全固体フッ化物イオン電池における高イオン伝導度固体電解質の開発

    近松 彰, 第51回岩谷科学技術研究助成金, (公財)岩谷直治記念財団 , 2025年度, 2,000,000千円

  • 酸フッ化物薄膜の室温マルチフェロイック特性の開発

    基盤研究(B), 近松 彰, 2025年度, 1,900,000千円

  • 酸フッ化物薄膜の室温マルチフェロイック特性の開発

    基盤研究(B), 近松 彰, 2024年度, 1,900,000千円

  • 酸フッ化物薄膜の室温マルチフェロイック特性の開発

    基盤研究(B), 近松 彰, 2023年度, 11,830,000千円

  • 室温で動作するマルチフェロイック酸フッ化物薄膜の開発

    近松 彰, サムコ科学技術振興財団 第5回研究助成 , サムコ科学技術振興財団, 2022年度, 2,000,000千円

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学術団体の役員、委員等としての貢献 【 表示 / 非表示

  • 日本表面真空学会

    2024年04月 - 現在,委員, 学会・研究会等, ダイバーシティ推進委員会, 国内

  • 日本フッ素化学会

    2023年08月 - 現在,委員, 学会・研究会等, 国内

  • 応用物理学会 量子ビームによる表面界面の光機能探究研究会

    2020年04月 - 2022年12月,委員, 学会・研究会等, 国内

  • 日本磁気学会

    2019年04月 - 2021年03月,幹事(監査), 国内

  • 日本磁気学会

    2017年05月 - 2019年03月,委員, 国内

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