近松 彰 CHIKAMATSU Akira
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学歴 【 表示 / 非表示 】
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東京大学, 大学院工学系研究科, 応用化学専攻, 大学院(博士課程), 2008年03月, 修了, 日本国
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東京大学, 大学院工学系研究科, 応用化学専攻, 大学院(修士課程), 2005年03月, 修了, 日本国
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東京理科大学, 理学部第一部, 化学科, 大学, 2003年03月, 卒業, 日本国
学内職務経歴 【 表示 / 非表示 】
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基幹研究院 自然科学系,准教授,2021年10月 - 継続中
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お茶の水女子大学 文理融合AI・データサイエンスセンター,センター員,2022年04月 - 継続中
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お茶の水女子大学 共通機器センター,センター員,2022年04月 - 継続中
学外略歴 【 表示 / 非表示 】
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東京大学 大学院理学系研究科化学専攻,助教,2009年11月 - 2021年09月
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東京大学 大学院理学系研究科化学専攻,特任助教,2008年05月 - 2009年11月
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東京大学 大学院理学系研究科化学専攻,特任研究員,2008年04月
担当科目 【 表示 / 非表示 】
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2022年度
論文 【 表示 / 非表示 】
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Photo-induced antiferromagnetic-ferromagnetic and spin-state transition in a double-perovskite cobalt oxide thin film
Communications Physics, 5巻50号(頁1 - 9), 2022年03月, ZHANG Yujun, KATAYAMA Tsukasa, CHIKAMATSU Akira, SCHUBLER-LANGEHEINE Christian, PONTIUS Niko, HIRATA Yasuyuki, TAKUBO Kou, YAMAGAMI Kohei, IKEDA Keisuke, YAMAMOTO Kohei, HASEGAWA Tetsuya, WADATI Hiroki, 原著, 研究論文(学術雑誌), 共著者
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Crystal structure and electronic property modification of Ca2RuO4 thin films via fluorine doping
Physical Review Materials, 6巻3号(頁035002-1 - 035002-5), 2022年03月, FUKUMA Shota, CHIKAMATSU Akira, KATAYAMA Tsukasa, MARUYAMA Takahiro, YANAGISAWA Keiich, KIMOTO Koji, KITAMURA Miho, HORIBA Koji, KUMIGASHIRA Hiroshi, HIROSE Yasushi, HASEGAWA Tetsuya, 原著, 研究論文(学術雑誌), 第一著者相当
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Improvement of electric insulation in dielectric layered perovskite nickelate films via fluorination
Journal of Materials Chemistry C, 10巻(頁1711 - 1717), 2022年02月, NISHIMURA Takuma, KATAYAMA Tsukasa, MO Shishin, CHIKAMATSU Akira, HASEGAWA Tetsuya, 原著, 研究論文(学術雑誌), 共著者
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Heteroepitaxial Growth of a Ta3N5 Thin Film with Clear Anisotropic Optical Properties
The Journal of Physical Chemistry Letters, 12巻(頁12323 - 12328), 2021年12月, WANG Yannan, HIROSE Yasushi, WAKASUGI Takuto, MASUBUCHI Yuji, TSUCHII Masato, SUGISAWA Yuki, SEKIBA Daiichiro, CHIKAMATSU Akira, HASEGAWA Tetsuya, 原著, 研究論文(学術雑誌), 共著者
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Epitaxial-Strain-Induced Spontaneous Magnetization in Polar Mn2Mo3O8
Chemistry of Materials, 33巻19号(頁7713 - 7718), 2021年10月, MO Shishin, KATAYAMA Tsukasa, CHIKAMATSU Akira, KITAMURA Miho, HORIBA Koji, KUMIGASHIRA Hiroshi, HASEGAWA Tetsuya, 原著, 研究論文(学術雑誌), 共著者
研究発表 【 表示 / 非表示 】
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Topochemical synthesis of mixed-anion oxide epitaxial thin films
CHIKAMATSU Akira, 国外, 2022年05月, 2022 MRS Spring Meeting, Online, Materials Research Society, 招待講演, 第一発表者
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Modulating physical properties of strongly correlated oxide thin films by anion doping
CHIKAMATSU Akira, HASEGAWA Tetsuya, 国外, 2021年12月, The Materials Research Meeting 2021, Yokohama, Japan, 招待講演, 第一発表者
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トポタクティック合成法による複合アニオン酸化物エピタキシー
近松 彰, 国内, 2021年01月, 第134回東京工業大学フロンティア材料研究所講演会, オンライン, 招待講演, 第一発表者
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新規遷移金属酸化物薄膜の作製と光機能
近松 彰, 国内, 2020年09月, 第81回応用物理学会秋季学術講演会, オンライン, 招待講演, 第一発表者
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アニオンドーピングによる強相関酸化物の物性変調
近松 彰, 国内, 2020年09月, 第81回応用物理学会秋季学術講演会, オンライン, 招待講演, 第一発表者
研究活動に対する受賞 【 表示 / 非表示 】
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令和3年度日本磁気学会「学会活動貢献賞」
日本磁気学会, 近松 彰, 2021年08月, 国内
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ニッポン放送賞
第22回 独創性を拓く先端技術大賞, 近松 彰, 2008年06月, 国内
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優秀ポスター賞
2005年度PF研究会「アンジュレータ放射光による固体物性研究の展望」, 近松 彰, 2005年04月, 国内
外部資金等受入(教育・社会貢献の外部資金を含む) 【 表示 / 非表示 】
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室温で動作するマルチフェロイック酸フッ化物薄膜の開発
近松 彰, サムコ科学技術振興財団 第5回研究助成 , サムコ科学技術振興財団, 2022年度, 2,000千円
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遷移金属複合アニオン酸化物薄膜の光機能の開発
基盤研究(B), 近松 彰, 和達 大樹、酒井 志朗 , 2022年度, 1,500千円
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遷移金属複合アニオン酸化物薄膜の光機能の開発
基盤研究(B), 近松 彰, 和達 大樹、酒井 志朗 , 2021年度, 1,500千円
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遷移金属複合アニオン酸化物薄膜の光機能の開発
基盤研究(B), 近松 彰, 和達 大樹、酒井 志朗 , 2020年度, 1,500千円
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遷移金属複合アニオン酸化物薄膜の光機能の開発
基盤研究(B), 近松 彰, 和達 大樹、酒井 志朗 , 2019年度, 9,100千円