近松　彰

CHIKAMATSU Akira

職名

准教授

所属

基幹研究院 自然科学系

お茶の水女子大学

主担当学科

理学部化学科

担当大学院（博士前期課程）

人間文化創成科学研究科理学専攻化学・生物化学コース

担当大学院（博士後期課程）

人間文化創成科学研究科理学専攻化学・生物化学領域

URL

写真a

このページの先頭へ▲

学歴 【 表示 ／ 非表示 】

  • 東京大学, 大学院工学系研究科, 応用化学専攻, 大学院（博士課程）, 2008年03月, 修了, 日本国

  • 東京大学, 大学院工学系研究科, 応用化学専攻, 大学院（修士課程）, 2005年03月, 修了, 日本国

  • 東京理科大学, 理学部第一部, 化学科, 大学, 2003年03月, 卒業, 日本国

このページの先頭へ▲

学位 【 表示 ／ 非表示 】

  • 博士（工学）, 東京大学, 2008年03月

このページの先頭へ▲

学内職務経歴 【 表示 ／ 非表示 】

  • 基幹研究院 自然科学系，准教授，2021年10月 - 継続中

  • 理学部 学部入試(方法検討)／入学者選抜方法検討委員会，委員，2022年04月 - 2024年03月

  • お茶の水女子大学 文理融合AI・データサイエンスセンター，センター員，2022年04月 - 継続中

  • お茶の水女子大学 共通機器センター，センター員，2022年04月 - 継続中

  • 理学部 学部カリキュラム委員会，委員，2024年04月 - 2025年03月

全件表示 >>

このページの先頭へ▲

学外略歴 【 表示 ／ 非表示 】

  • 東京大学 大学院理学系研究科化学専攻，助教，2009年11月 - 2021年09月

  • 東京大学 大学院理学系研究科化学専攻，特任助教，2008年05月 - 2009年11月

  • 東京大学 大学院理学系研究科化学専攻，特任研究員，2008年04月

このページの先頭へ▲

研究分野 【 表示 ／ 非表示 】

このページの先頭へ▲
 

論文 【 表示 ／ 非表示 】

  • Highly Oriented β-In2S3 Thin Films Grown via Two-Flow-Channel Vertical Chemical Vapor Deposition for Photoconductive Devices

    Inorganic Chemistry, , 2026年10月, TANAKA Yuta, URAKAMI Noriyuki, SAITO Kana, TAKAMURE Kotaro, CHIKAMATSU Akira, SHIMADA Toshihiro, YANASE Takashi, 原著, 研究論文（学術雑誌）, 共著者

  • Observation of sign-reversal magnetoresistance in strongly correlated double-perovskite cobaltites via heavy hole doping

    Journal of Materials Chemistry C, , 2026年09月, KATAYAMA Tsukasa, NIITSU Kodai, Akira Chikamatsu, Tetsuya Hasegawa, 原著, 研究論文（学術雑誌）, 共著者

  • Fluorination Effects on the Ferroelectric and Magnetic Properties of Ba Substituted BiFeO3 Thin Films Studied by Electron Spectroscopy

    Journal of Physical Chemistry C, , 130巻30号(頁10631 - 10636), 2026年07月, KAMIGAITO Akiko, SHIGEMATSU Kei, KOBAYASHI Masaki, AMEMIYA Kenta, KUMIGASHIRA Hiroshi, KATAYAMA Tsukasa, CHIKAMATSU Akira, 原著, 研究論文（学術雑誌）, 第一著者相当

  • Fluoride-target-assisted growth of Pb2OF2 oxyfluoride films with anion ordering and high dielectric constant

    Journal of Materials Chemistry C, , 13巻(頁21106 - 21110), 2025年09月, MURAKI Rion, MARUNOUCHI Ko, ZHOU Weikun, CHIKAMATSU Akira, OHTA Hiromichi, KATAYAMA Tsukasa, 原著, 研究論文（学術雑誌）, 共著者

  • Crystal structure and fluoride-ion conductivity of strontium cerium fluoride epitaxial films prepared by topochemical fluorination

    Chemical Communications, , 61巻66号(頁12317 - 12320), 2025年07月, CHIKAMATSU Akira, NAKANO Ayuka, HAGIWARA Miku, KUTSUZAWA Dai, FUKUSHI Erika, OGUCHI Hiroyuki, UESUGI Fumihiko, KATAYAMA Tsukasa, HIROSE Yasushi, 原著, 研究論文（学術雑誌）, 第一著者相当

全件表示 >>

このページの先頭へ▲

その他雑誌掲載文 【 表示 ／ 非表示 】

  • 中高生のための「理工系のススメ」 vol. 2

    お茶の水女子大学理系女性育成啓発研究所2026年08月, 近松　彰・藤山　真美子, 資料, 第一著者相当, 査読なし, 記事・総説・解説・論説等（その他）

このページの先頭へ▲

研究発表 【 表示 ／ 非表示 】

  • Crystal structure and fluoride-ion transport in Sr-substituted cerium fluoride thin films prepared by topochemical fluorination

    CHIKAMATSU Akira, NAKANO Ayuka, HAGIWARA Miku, KUTSUZAWA Dai, FUKUSHI Erika, OGUCHI Hiroyuki, UESUGI Fumihiko, KATAYAMA Tsukasa, HIROSE Yasushi, 国外, ポスター発表, 2026年09月, 2026年09月27日2026年09月30日, 32nd International Workshop on Oxide Electronics, Sendai, Japan, 一般発表, 第一発表者

  • Fabrication and Characterization of YBaFe2O5F Epitaxial Thin Films via Topochemical Fluorination

    TSUIJI Reina, KAMIGAITO Akiko, SHIGEMATSU Kei, KUMIGASHIRA Hiroshi, KATAYAMA Tsukasa, HIROSE Yasushi, CHIKAMATSU Akira, 国外, ポスター発表, 2026年09月, 2026年09月27日2026年09月30日, 32nd International Workshop on Oxide Electronics, Sendai, Japan, 一般発表, 第一発表者

  • Ferroelectricity and magnetic order at room temperature and electronic states of bismuth iron oxyfluoride thin films

    KAMIGAITO Akiko, SANO Mizuho, SHIGEMATSU Kei, DEMURA Satoshi, KUMIGASHIRA Hiroshi, KATAYAMA Tsukasa, HIROSE Yasushi, CHIKAMATSU Akira, 国外, ポスター発表, 2026年09月, 2026年09月27日2026年09月30日, 32nd International Workshop on Oxide Electronics, Sendai, Japan, 一般発表, 第一発表者

  • Antiferroelectric behavior in mixed-anion Bi2TiO4F2 induced by rotation of TiO3F3 octahedra

    KATAYAMA Tsukasa, CHIKAMATSU Akira, HIRAYAMA Motoaki, 国外, 口頭発表（一般）, 2026年09月, 2026年09月27日2026年09月30日, 32nd International Workshop on Oxide Electronics, Sendai, Japan, 一般発表, 共著者

  • Synthesis and investigation of Eu2NiO4 in Ruddlesden-Popper structure

    Hao-Bo Li, Daichi Ito, Shunsuke Kobayashi, Yuki Sasahara, Takuya Majima, Yoshihiro Tsujimoto, Akira Chikamatsu, Hyoungjeen Jeen, Hiroshi Takatsu, Hiroshi Kageyama, Hidekazu Tanaka, 国外, ポスター発表, 2026年09月, 2026年09月27日2026年09月30日, 32nd International Workshop on Oxide Electronics, Sendai, Japan, 一般発表, 共著者

全件表示 >>

このページの先頭へ▲

研究活動に対する受賞 【 表示 ／ 非表示 】

  • 第6回物質・デバイス共同研究賞

    物質・デバイス領域共同研究拠点, 近松　彰・上垣外　明子・佐野　瑞歩・片山　司, 2024年05月, 国内その他, 日本国,

  • 令和3年度日本磁気学会「学会活動貢献賞」

    日本磁気学会, 近松　彰, 2021年08月, 国内

  • ニッポン放送賞

    第22回 独創性を拓く先端技術大賞, 近松　彰, 2008年06月, 国内

  • 優秀ポスター賞

    2005年度PF研究会「アンジュレータ放射光による固体物性研究の展望」, 近松　彰, 2005年04月, 国内

このページの先頭へ▲

外部資金等受入（教育・社会貢献の外部資金を含む） 【 表示 ／ 非表示 】

  • 酸フッ化物薄膜の室温マルチフェロイック特性の開発

    基盤研究（Ｂ）, 近松　彰, 2026年度, 1,900,000円

  • 磁性体アイソレータ向け強磁性体材料の研究開発

    ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業, 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構, 2026年度, 57,000,000円

  • 全固体フッ化物イオン電池における高イオン伝導度固体電解質の開発

    研究助成金・奨学寄附金, 近松　彰, 第51回岩谷科学技術研究助成金, （公財）岩谷直治記念財団 , 2025年度, 2,000,000円

  • 酸フッ化物薄膜の室温マルチフェロイック特性の開発

    基盤研究（Ｂ）, 近松　彰, 2025年度, 1,900,000円

  • 二重ペロブスカイト鉄酸フッ化物薄膜のマルチフェロイック特性探索

    研究助成金・奨学寄附金, 近松　彰, （公財）大倉和親記念財団 2025年度（第56回）研究助成, （公財）大倉和親記念財団, 2025年度, 1,500,000円

全件表示 >>

このページの先頭へ▲
 

学術団体の役員、委員等としての貢献 【 表示 ／ 非表示 】

  • 日本表面真空学会

    2024年04月 - 現在，委員, 学会・研究会等, ダイバーシティ推進委員会, 国内

  • 日本フッ素化学会

    2023年08月 - 現在，委員, 学会・研究会等, 国内

  • 応用物理学会　量子ビームによる表面界面の光機能探究研究会

    2020年04月 - 2022年12月，委員, 学会・研究会等, 国内

  • 日本磁気学会

    2019年04月 - 2021年03月，幹事（監査）, 国内

  • 日本磁気学会

    2017年05月 - 2019年03月，委員, 国内

全件表示 >>

このページの先頭へ▲